équipement de pulvérisation d'évaporateur sous vide
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équipement de pulvérisation d'évaporateur sous vide

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Model No. : HYJ-302
Brand Name : HENGYIJIA
Coating : Vacuum Coating
Customization : Yes
Type : Coating Production Line
Machine Type : PVD Machine
Substrate : Glass, Metal, Ceramic, Ceramic
Chamber Material : 304 SS ,316 SS
Coating Film : Decorative Film
plus
9yrs

Shenzhen, Guangdong, China

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Description du produit

Présentation du produit:
Modèle: TG-2040
Taille: Φ2000 × H4000mm
Puissance: 200kw
Surface occupée: 35-55m²
Source de l'arc: 22-32sets
Film de revêtement: Revêtement décoratif
Avantage: Taux élevé d'ionisation, taux élevé de dépôt, stabilité et basse température au magnétron
pulvérisation, particules fines, opération simple, rendement élevé etc.
Application:

1. industrie de matériel (articles sanitaires, poignées de porte, poignée, serrures de porte etc.)
2. industrie de décoration (main courante d'escalier)
3. appareils ménagers (logo lable, signes)
4. produits en acier inoxydable (étagère d'exposition, cadre)
Couleur: or, or rose, or noir, argent, or champagne, bleu saphir, noir, etc.
Revêtement: TiN, CrN, ZrN, TiCN, TiCrN, TiNC, TiALN et DLC
Remarque: Sur mesure en fonction des produits et des exigences du client.
Principe de fonctionnement en plastique de machine de revêtement de chrome de vide :

La cathode se combine avec l'anode pour former la décharge d'arc dans l'environnement de vide, puis libère l'ion de la cathode.

En raison de la concentration du courant, il produira la chaleur qui rendra le plasma matériel. Le plasma réagit avec le gaz sous l'action du bombardement par pulvérisation cathodique, pour être revêtu à la surface des produits.

Multi-Arc Ion Coating Equipment Model(Diameter less than 2m)
Model HYJ-1418 HYJ-1620 HYJ-1820 HYJ-2021 HYJ-2023 HYJ-2040
Chamber D1400×H1800mm D1600×H2000mm D1800×H2000mm D2000×H2100mm D2000×H2300mm D2000×H4000mm
Structure Vertical door, hanging or horizontal cart structure, pumping system and water cooling system
Vacuum System Sustaining Pump + Mechanical Pump + Roots Pump + Diffusion Pump 
or Molecule Pump
Measurement 1 set pirani, 1 set cold cathode, 1 set diaphragm gauge
Power DC power, MF power, pulse power(bias power, arc power)
Ultimate Pressure  1.0 - 6.0×10-4Pa, Non-loading cooling
Arc Source 16-24 set 16-24 set 18-26 set 18-26 set 22-28 set 22-32 set
200A-300A 200A-300A 200A-300A 200A-300A 200A-300A 200A-300A
Bias Power Supply 40KW/1 set 40KW/1 set 40KW/1 set 50KW/1 set 50KW/1 set 60KW/1 set
Magnetron Power Supply 1-2 set 1-2 set 2-3 set 2-3 set ---- ----
Temp. Normal temperature - 450°C can be controlled and adjusted(PID temperature control)
Gas Ar, N2, O2, C2H2,etc.
Cooling Water cooling circulation, equip with industrial cooling tower or industrial water chiller(refrigerating machine)
or cryogenic system.(customers provide)
Controlling Method Manual, half-auto, auto, touch screen operation, PLC or computer controlled
Supply Index Air Pressure 0.5-0.8MPa, Water Temp.≤25°C,Water Pressure≥0.2MPa
Total Power 100~125KW 125~145KW 145~165KW 165~185KW 185~200KW 200KW
Output Frequency Voltage 380V,Frequency 50HZ/60HZ
Occupation Space 15~50m² 15~50m² 25~55m² 25~55m² 35~55m² 35~55m²
Remark customization
Multi - arc ion plating machineMulti-arc ion platingVacuum multi - arc ion plating

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